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Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology (JM3) (或:JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3)《微/纳米图案化,材料与计量学期刊》(原:Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS) (官网投稿)

简介
  • 期刊简称J MICRO-NANOPATTERN
  • 参考译名《微/纳米图案化,材料与计量学期刊》
  • 核心类别 高质量科技期刊(T3-2025), SCIE核心, EI 外国期刊, 目次收录(维普),外文期刊,
  • IF影响因子
  • 自引率
  • 主要研究方向MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY;OPTICS;ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC;NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY。重点主题领域包括光刻、计算、刻蚀及集成技术的科学研究、开发与实践。涵盖的主题领域包括:光刻:涉及具有亚微米及纳米尺度特征结构的图形形成相关的工具、掩模、工艺及计算方法。包括使用光学、电子束及其他粒子束、纳米压印、分子自组装及其混合技术的成像与非成像方法。应用领域不仅涵盖半导体制造,也包括其他微纳器件的图形化。材料:用于制造微纳器件图形的材料,包括光刻胶、自组装材料、抗反射涂层以及其他对光刻工艺至关重要的材料。计量学:电子器件及其制造工艺的计量学与过程控制。刻蚀:将图形转移至构成电子器件薄膜的相关技术。集成:光刻、薄膜和刻蚀技术的结合,以形成电子器件的图形。展开更多

主要研究方向:

等待设置主要研究方向
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY;OPTICS;ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC;NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY。重点主题领域包括光刻、计算、刻蚀及集成技术的科学研究、开发与实践。涵盖的主题领域包括:光刻:涉及具有亚微米及纳米尺度特征结构的图形形成相关的工具、掩模、工艺及计算方法。包括使用光学、电子束及其他粒子束、纳米压印、分子自组装及其混合技术的成像与非成像方法。应用领域不仅涵盖半导体制造,也包括其他微纳器件的图形化。材料:用于制造微纳器件图形的材料,包括光刻胶、自组装材料、抗反射涂层以及其他对光刻工艺至关重要的材料。计量学:电子器件及其制造工艺的计量学与过程控制。刻蚀:将图形转移至构成电子器件薄膜的相关技术。集成:光刻、薄膜和刻蚀技术的结合,以形成电子器件的图形。

Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology (JM3)《微/纳米图案化,材料与计量学期刊》(季刊). The Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology (...[显示全部]
征稿信息

万维提示:

1、投稿方式:在线投稿。

2、期刊网址:

https://www.spiedigitallibrary.org/journals/journal-of-micro-nanopatterning-materials-and-metrology

3、投稿网址:https://jm3.msubmit.net/

4、官网邮箱:jm3@spie.org(编辑部)

5、期刊刊期:季刊,逢季首月出版。

6、期刊更名:自2021年期刊Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS更名为Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology (JM3)

20251231日星期三


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