荷兰纳米光刻高级研究中心全奖博士招生

博士。与纳米光刻技术中的定位挑战相关的界面滑动摩擦的发生

关于该小组

纳米光刻技术高级研究中心（ARCNL）专注于研究当前和未来纳米光刻技术中涉及的基础物理和化学，主要用于半导体行业。ARCNL是荷兰研究理事会（NWO）、阿姆斯特丹大学（UvA）、阿姆斯特丹大学（VU）、格罗宁根大学（RUG）和半导体设备制造商ASML之间的一个公私合作项目。ARCNL位于荷兰阿姆斯特丹科学园，拥有约100名科学家和支持人员的规模。另请参见www.arcnl.nl

接触动力学小组的研究活动旨在调查和提供对摩擦、摩擦随时间变化和摩擦变异性的基础机制的基本理解，这些机制受磨损现象的影响，与现在和未来的纳米光刻技术有关的力量、规模和其他前提条件。这包括粗糙表面接触力学、粘附、摩擦化学磨损、薄膜润滑和新型涂层。

ARCNL是一个国际机构，在各研究小组内部和之间具有很强的凝聚力。可以在固定或不同的日子在家工作。ARCNL致力于实现性别平等。

资格要求

候选人拥有物理学或相关学科的硕士学位。

应聘者喜欢进行实验和分析，以逐步建立对复杂物理机制的深入理解。

应聘者喜欢交流和解释他们的工作成果。

有使用/开发机械/部落学测试仪器的经验者优先。

就业条款

该职位是在荷兰科学研究机构基金会（NWO-I）服务的全职（40小时/周，12个月/年），为期四年，起薪为每月2539欧元，并有一系列的就业福利。成功完成博士研究后，将被授予阿姆斯特丹大学的博士学位。阿姆斯特丹大学提供一些专门为博士生开发的课程。ARCNL协助任何新的外国博士生申请住房和签证，并补偿他们的交通费用和家具费用。

联系信息

Dr. Bart Weber

组长 联系动态

电子邮件: b.weber@arcnl.nl

电话。+31 (0)20-754 7100

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转自：“科研doge”微信公众号

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